Çinin dövlət dəstəyi ilə fəaliyyət göstərən Şanxay şirkəti ölkənin ilk yerli immersion DUV litoqrafiya avadanlıqlarının məhdud həcmdə kütləvi istehsalına başlayıb.
İNFOAZ.MEDİA xəbər verir ki, 2026-cı ildə bu avadanlıqlardan təxminən beş ədədin SMIC, Hua Hong və CXMT şirkətlərinə təhvil verilməsi, 2027-ci ildə isə istehsalın 20 ədədə çatdırılması planlaşdırılır.
Bildirilir ki, yeni sistemlər 28 nanometr texnoloji proseslər üçün nəzərdə tutulub. Eyni zamanda, çoxnaxışlama (multi-patterning) texnologiyası sayəsində 7 nanometr səviyyəsində çip istehsalını da dəstəkləyə bilir. Bununla belə, məhsuldarlıq, dəqiqlik və etibarlılıq baxımından hələ də Niderlandın ASML şirkətinin avadanlıqlarından geri qalır.
Xəbərin yayılmasından sonra ASML-in səhmləri kəskin ucuzlaşıb və ticarət qısa müddətə dayandırılıb. ABŞ-ın yarımkeçirici avadanlıqları istehsal edən Applied Materials, Lam Research və KLA şirkətlərinin səhmlərində də eniş qeydə alınıb.
Mütəxəssislər bildirirlər ki, bu inkişaf ən qabaqcıl çiplərin istehsalı üçün tələb olunan EUV texnologiyasını əvəz etmir. Bununla belə, Çin üçün ABŞ və Niderlandın ixrac məhdudiyyətlərinin təsirini orta və yetkin texnoloji proseslərdə azaltmaq istiqamətində mühüm addım hesab olunur.
Rauf
